経済産業省大臣官房審議官

○蓮井政府参考人　御指摘のとおりでございます。現在の外国公務員贈賄罪の懲役刑の長期は五年であるのに対しまして、日本の公務員に対する贈賄罪の懲役刑の長期は三年であることから、現行法においても条約の履行義務を果たしていると考えたところでございますが、この条約をより高い水準で的確に実施するために、懲役刑の長期をほかの国内の財政経済関係犯罪の中でやはり最高レベルである十年に引き上げるとしたものでございます。

○蓮井政府参考人　お答え申し上げます。 　外国公務員贈賄罪の取締りにつきましては、先ほど御答弁ございましたように、捜査機関である検察、警察が適切に対処をしていて、事案に応じて、捜査共助等を通じた外国政府の連携がなされているというふうに承知をしてございます。 　私ども、一応法律の方を所管している経済産業省といたしましても、外国公務員贈賄罪が疑われる情報が経済産業省に届いた場合には速やかに法執行当局に情報提供する、あるいは、逆に、個別の事案というわけではないですけれども、一般論としても、不正競争防止法のこの部分にこれは該当するかどうかといったような解釈についてお問合せがあった場合にはこれにきっちり対応するといったことを行っておりまして、引き続き、こうした法執行当局との連携を図ってまいりたいと考えております。

○蓮井政府参考人　お答え申し上げます。 　不正競争防止法の、御指摘の形態模倣の観点から申し上げれば、例えば、ＡＩを用いて元の商品の形態を模倣した、いろいろＡＩにデータを入れて、それを模倣した商品が提供される場合というのは確かに考えられると思います。 　この場合に、これが他人の商品形態を模倣した商品の提供行為として不正競争になるかどうかということについては、先ほど来議論がございますけれども、現行の不正競争防止法の要件に基づきまして、他人の商品の形態に依拠をして、これと実質的に同一の形態の商品を提供しているかどうか、この二点の要件に該当するかどうかということで判断されると思います。 　上記要件を満たす場合には侵害者に対して損害賠償請求を行うことができるとなるわけでございますが、御指摘のとおり、今後、新しい技術によってどういった形が出てくるか、それによってどのような更に細かい論点等が出てく

○蓮井政府参考人　お答え申し上げます。 　御指摘のとおり、外国公務員に関するワーキンググループの報告書において、第四期審査は第三期審査で未履行とされた勧告に焦点が当てられている旨、記載されてございます。 　当該記載は、ＯＥＣＤ贈賄作業部会が取りまとめた第四期の審査報告書に、前期審査の未履行の勧告の実施の進捗状況に焦点を当てる旨の記載があることを踏まえたものと承知してございます。

○蓮井政府参考人　第三期審査におきましては、二〇一一年七月に、ＯＥＣＤ贈賄作業部会の審査チームが日本を訪問し、審査を実施しております。その審査を踏まえまして、同年十二月、二〇一一年十二月に報告書が公表されたところでございます。

○蓮井政府参考人　第四期審査におきまして、日本は、十七の分類、五十一項目の勧告を受けているものと承知しております。

○蓮井政府参考人　お答え申し上げます。 　第四期審査において日本はＯＥＣＤ贈賄作業部会から五十一項目の勧告を受けた、そのうち七項目の勧告を完全に実施し、二十三項目の勧告を部分的に実施し、二十一項目の勧告を実施していないと評価されているものと承知してございます。 　なお、そのうち、優先して対応すべきと勧告された四項目の指摘について、今回、不正競争防止法を改正することにより対応するものでございます。

○福永政府参考人　お答えいたします。 　先ほど大臣から答弁させていただきましたとおり、先般の邦人拘束事件や反スパイ法の改定による取締り対象の拡大等を踏まえれば、中国のビジネスで留意すべき点について一層の注意喚起が必要である、本当に先生がおっしゃるとおりだと思います。 　まさに、中国に一万二千社、三万事業所以上の日本企業が進出しているのに対して、ジェトロ自体が、北京、香港、上海、大連、広州、青島、武漢、成都の八事務所を通じて、安全確保を含めて、現地で事業活動を行う日本企業の貿易投資相談に日々応じているという実態がございます。そのような事態を通じて、特に中国ビジネスにおける留意事項等について、丁寧に説明するということに心がけております。加えて、東京の方でも、あるいは本部の方でも、各種セミナーを開催するとかメールマガジンでの配信等を通じて、情報提供、注意喚起を行っているところでございます。

○蓮井政府参考人　お答え申し上げます。 　今御指摘の中国の反不正当競争法に基づく取締りにつきましては、中国での執行の話でございまして、執行状況や内容を把握することは極めて困難でございます。その中でも把握している限りでは、過去に日本企業が中国の当局からの営業秘密侵害で摘発された事例というのは承知してございません。 　ただ、中国の裁判所が一部公表している情報なんかによりますと、例えば二〇一四年から二一年まで、七年間で、日本の地方裁判所に当たる北京市知識産権法院、これで審理を終結した営業秘密侵害の民事事件は百二十件と聞いております。中国でも営業秘密侵害の係争は発生していることは承知をしてございます。ただ、これは企業名等は公表されておりませんので、日本の企業かどうかというのは分かりません。 　したがいまして、御指摘のとおり、中国で日本企業が営業秘密を侵害し、中国で取締りを受ける可能性というの

○門松政府参考人　お答えいたします。 　ナノメートルレベルの非常に微細な加工を半導体は必要とするわけでございまして、僅かなちりやごみが付着しても性能を発揮できないということでございます。このため、各工程の終了後に入念な洗浄を行う必要がございまして、特に半導体の製造には数百から数千もの工程を要します。その都度洗浄が必要となるため、非常に多くの水を利用するということでございます。 　御指摘のように、半導体の製造のためには工程ごとに更に多種多様な化学物質を使用するわけでございますが、具体的には、シリコンウェハー上に薄い膜を生成する成膜工程において使用されるアンモニアなどの窒素化合物、また、ちりやごみを洗い流す洗浄工程において使用されるフッ素化合物などが挙げられるということでございます。